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高硅鑄鐵陽極
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     高硅鑄鐵陽極于1954年*出現在陽極材料中,雖然這種材料在淡水環境中作用良好,但在海水中卻存在嚴重的小孔腐蝕。隨著合金技術的持續發展,1959年被加入到其中以求改善陽極在含氫離子水中性能。

     當高硅鑄鐵被作陽極時,在陽極表面上形成一層二氧化硅薄膜,氧化膜的形成可以減小氧化作用引起的材料損失效率,雖然二氧化硅一般被認為是電阻率非常高的絕緣材料,但是,在潮濕條件下形成陽極上時,該氧化物膜多孔且具有半導電性。這就使得陽極可以繼續排放電流,而接觸電阻沒有明顯增加。然而,在低水分條件下二氧化硅膜的電阻率隨著時間而增加,進而有效地*了電流排放。

    高硅鑄鐵合金由于硬度較大,對河流、沖擊或空化作用引起的侵蝕利磨損具有一定的抵抗力。雖然該陽極可以抵抗酸侵蝕,但高PH酸根離子的環境中,陽極消耗率會增加。*后,考慮到對二氧化硅膜的電阻率的影響,也應當避免干土壤條件。高硅鑄鐵陽極,,,高硅陽極.JPG